PCBLDI曝光机-PCB-迪盛微电子科技

曝光

曝光是指将涂有感光层的PS版置于晒版机工作台上，放好底片，通过曝光 获得一种潜在或可见图像的过程。曝光是一切光化学成像方法的基本过程与主要特征。曝光，曝光模式即计算机采用自然光源的模式，PCBLDI曝光机，通常分为多种，PCB微米级曝光，手动曝光、AE锁等模式。照片的好坏与曝光有关，也就是说应该通多少的光线使CCD能够得到清晰的图像。曝光量由通光时间（快门速度决定），通光面积（光圈大小）决定。

DI直接成像曝光机

1、一体化的光学系统设计：

DI 的光学系统无需扫描整个曝光面，从而降低了光学元件发热产生的影响。

实时数据处理：系统实时同步处理数据，可以动态处理板面涨缩和旋转的变化，可选在板面和排版内打印序号标记。

高灵活性：对位影像系统可使用单一设定对同一批板子和根据每一张板子的标靶进行单独涨缩曝光。

2、可升级：

可根据客户的需求进行光学模组数量的升级，以满足客户提升产能的要求。

晒版机（曝光机）的工作原理及操作步骤

晒版机是用于制作印版的一种接触曝光成像设备。

（1）晒版机对光源的要求：首先应根据PS版的感光特性来选择光源，PS版的感光范围一般在280-450nm，因粘贴胶片的片基和晒版机玻璃对320nm波长以下的光具有较强烈的吸收作用。因此320nm以下波长的光对PS版感光层起不到感光效能，PCB，感光性能较好的PS版将感光范围定在320-450nm波长范围内；碘jia灯是当今通用且的光源，其波长分布在350-450nm范围内，对多数晒版感光层有效。这种光源有较强的辐射热，因此晒版机应具备良好的散热装置。